EMS150 T离子溅射镀膜仪的机壳是整体成型的，结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间**的真空水平，真空腔室直径�?65mm并带有防爆装置。EMS150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而保证高真空的性能、�/p>

EMS150 T离子溅射镀膜仪系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作�?*的镀膜质量和对熟�?新手都很理想的用户界面，让用户真正领�?***的镀膜品质！

EMS150 T离子溅射镀膜仪根据不同的应用方向，EMS150T细分为三个型号：

EMS150TS９�/strong>高分辨率溅射镀膜仪High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜常用的铱和鉻、�/p>

EMS150TE９�/strong>高真空镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用*理想的选择、�/p>

EMS150TES：集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式，镀膜头可在几秒内快速更换，只能逻辑系统自动识别所装的镀膜头类型，并显示相应的操作模式、�/p>

注：上述各型号都可配备如下可选的附件：金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等

触摸屏控制：

EMS150 T离子溅射镀膜仪操作十分简单，直观的触摸屏，即�?不熟练的操作者也可以自由操作，同时可方便的键入和存储数据。为了方便使用，设备中已经预存一些了典型的溅射和蒸发镀膜参数资料、�/p>

镀膜插入头选项９�/strong>

具有一系列可互换、即插即用的镀膜插入头

溅射插入头适用于易氧化和不易氧化金属材料，直径57mmX0.3mm厚鉻靶为标准靶材

可用另外的溅射插入头来快速更换镀膜材料（仅为TS和TES型号（�/p>

适用�?.05mm碳棒蒸发插入夳�/p>

适用�?.15mm碳棒蒸发头，建议使用3.05mm直径的碳棒，它们更容易控制、更经济

碳丝蒸发插入夳�/p>

金属蒸发和光阑洁净头，包括向上蒸发或向下蒸发（仅为TE和TES型号（�/p>

样品台选项

EMS150T具有各种易更换的样品台，drop-in落入式设计具高度可调（除旋转行星台）、�/p>

标准配置为旋转台� 直径�?0mm

可预设倾斜角度的旋转台（可选）

可变角度旋转行星台（可选）

可用�?〞晶圆的平面旋转台（可选）

显微镜载玻片样品台（可选）

其它选项

用于高样品的加高腔室

膜厚监测器（FTM（�/p>

用于测量低和高真空的全范围真空计

特点和优炸�

金属溅射或碳蒸发或两者兼备：一体化设计，节约空闳�/p>

精细颗粒溅射：高分辨率场发射扫描电镜（FE-SEM）制样的精细镀膜应�

涡轮分子泵高真空系统：允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜，大大拓宽了可溅射靶材范围，既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用，也为许多薄膜应用等材料科研领域提供理想的镀膜平�

全自动触摸屏控制：快速数据输入，简单操�

可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理�

与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真空控制

精细的厚度控制：使用膜厚监控选项

“智能”式系统识别：自动感知用户所装的插入式镀膜头的类�

高真空碳蒸镀：对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想

蒸发电流波形控制

Drop-in落入式快换样品台（标配旋转台�

真空闭锁功能：可让工作腔室处于真空状态，改善后续真空效果，或在真空条件下保存样品

镀制厚膜能力：一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟（材料科研领域的应用（�/p>

人体工程学设计的整体成型机壳：易维护和易拆装

带有本地FTP服务器连接的以太网端口：简单的程序更新

设有功率因素补偿，有效利用电能，降低运行成本

符合当前电器法规（CE认证�

EMS150 T离子溅射镀膜仪仪器参数９�/strong>

仪器尺寸	585mm�?470mm*410mm�?总高650mm)
重量	33.4KG
工作腔室	150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护�?/p>
触摸屏用户界靡�/p>	带有触摸按钮的全图像界面，包含多达十个镀膜程序，可提醒何时需要维抣�/p>
工作腔室	150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护�?/p>
样品�?/p>	转速为8-20rpm的旋转台
真空系统	涡轮子分子泵：带有内部空气却的涡轮分子泵，抽速为70L/s 旋转机械泵：抽速为50L/m的两级旋转机械泵，带有油污过滤器
真空测量	皮拉尼真空计作为标配
极限真空�?/p>	10-5mbar两级
电源需汁�/p>	90-250V~50/60Hz 1400VA� 包括旋转机械泵电�?40V（�/p>
气体	溅射工作气体氩气�?9.999%（TS和TES版本）；氮气，放气破真空气体（可选）
金属蒸发和光阑清洁头	用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑
碳蒸叐�/p>	稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碲�/p>
电流脉冲	1-90安培
溅射	0-150mA。可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时�?/p>
溅射工作真空范围	5*10-3�?*10-1mbar
溅射靶材和碳耗材供应	EMS150TS和EMS150TES标配铬靶，但可选用的其它靶材范围很宽，包括那些广泛用于SEM制样的靶材，如：Au金靶，Au/pd金钯，Pt铂靶，和Iridium铱靶。对非SEM应用，可选用的靶材包括：AI铝，Ta钽，ITO氧化铟锡，Fe铁，W钨，Ti钛，等等：碳制品包括高纯度碳丝、�/p>