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H20-UVL真空紫外单色仪在真空环境下覆?00-400nm?-12.4eV），在大气环境下覆盖190nm-400nm?-6.5eV）。结合真空紫外光源和蜗轮驱动实现快速精确的光谱扫描，可作为一个优异的真空紫外单色光源使用。在分辨率要求不高的情况下，配备单通道探测器，H20-UVL还是一个高性价比的真空紫外光谱分析系统、/p>
技术特炸/strong>
单片式光学结构确保光通量**化，高光学稳定?/p>
配备4型消像差单色仪光栅，全光谱范围线色散均匀
全自动蜗轮高速驱动光栄/p>
光栅表面镀氟化镁膜，优?20nm以上波长的输凹/span>
典型应用
透射反射测量
荧光激叐/p>
可调滤波/光源
激光谐波滤泡/p>
技术指栆/strong>
光学设计 |
HJY**皃/span>4型消像差单色仪光栄/span> |
焦长 |
200 mm |
孔径 |
f/4.2 |
刻线密度 |
1200 gr/mm |
光学镀膛/span> |
针对121nm优化皃/span>MgF2膛/span> |
偏转觑/span> |
64 |
色散 |
100nm夃/span>3.6 nm/mm |
驱动 |
高速蜗轮驱?/span> |
*小步迚/span> |
0.06 nm |
速度 |
400 nm/s |
精度 |
+/- 0.2 nm戕/span>+/-0.06 nm (*) |
可重复?/span> |
+/-0.06 nm |
分辨玆/span> |
优于0.5 nm (**) |
高真穹/span> |
10-5mbar (***) |
真空泵法?/span> |
DN40 KF |
入射/出射接口 |
测微狭缝(10 um臲/span>2 mm) |
入射/出射法兰 |
DN25 KF |
电脑接口 |
USB2.0 |
可选项 |
|
超高真空 |
10-9mbar |
狭缝高度调节?/span> |
2 4 6 mm |
(*)使用我们固件中的软件驱动矫正可以提高单色仪的精度 |
|
(**)使用宼/span>10微米，高2mm的狭缝在121nm处测野/span> (***)H20-UVL不含真空泵和真空讠/span> |
|
附件
前镜腔，配备两块超环面镜，实现光源和单色仪之间的光学匹配
后镜腔，配备两块超环面镜，实现单色仪和样品室之间的光学匹酌/p>
样品室，可搭?块直径不大于25mm的样?/p>
偏振插片
制冷机，*低至4K
真空泴/span>
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