原理９�/strong>等离子体分析飞行时间质谱�?/strong>结合了辉光放电等离子体的溅射速度和时间飞行质谱的快速以及高灵敏度，实现了高分辨率和高灵敏度条件下固体材料的快速化学深度剖析、�/p>

重点应用领域９�/strong>

�掺杂分析（半导体、光电子、太阳能光伏、传感器、固态光源）

�表面和整体污染鉴定（PVD 镀层、摩擦层、电气镀层、光学镀层、磁性镀层）

�腐蚀科学和技术（示踪物、标记监测、同位素标记（�/p>

�界面监测

技术参数：

�采集速率：每30��s一张全质谱

�质量分辨率：选择高分辨率模式时，在m/z 208可达 5000

�动态范围：10⁷

�质量准确度：40 ppm

�灵敏度：103 cps/ppm

�深度分辨率：nm

�正负离子模式

�4个离子的灵活消隐功能

�简单易用的水平样品装载

产品特点９�/strong>�样品分析快速无预处理：无需超高压腔

�适用于各种材料及镀层分枏�/p>

�全质量覆盖：可提供从 H 到U元素的完整质谱和分子信息，包括同位素监测

�独有3D 数据，脉冲射频模式（**（�/p>

�高深度分辨率：测试薄层可� 1nm

�薄层到厚层：层厚可达 100��m

�无需校准的半定量分析：溅射和电离过程分离，使得基体效�?小化