荫罩掩膜对准� Shadow Mask Aligner

设备简介：

本设备可以用于精确和可重建性的对准荫罩掩膜和晶圆。可以放于真空腔体用于PVD工艺。沉积后，夹盘可以打开，晶圆和掩膜可以不破坏的分离，并且掩膜板可以重复利用、�/p>

夹盘可以用于任何基底尺寸以满足用户的要求，并且我们也可以提供精确和经济的由金属、硅、玻璃、陶瓷等制造的荫罩掩膜、�/p>

产品型号９�/strong>SMA-100，SMA-150，SMA-200

晶圆和荫罩尺寸：100mm�?50mm�?00mm，取决于设备的配�?/p>

样品台特征：

X和Y方向范围：步�?0��m，灵敏度2��m

Z方向范围：步�?0��m，灵敏度2��m

旋转角度�?60��不间�?/p>

倾斜：工厂校准，工程师手动调芁�/p>

对准精度（溅射后（�/p>

线性对准：典型�?��m� ZUI大�?0��m

旋转对准�?.001���?.009��

夹盘

晶圆尺寸�?00mm�?50mm�?00mm

夹盘材料：阳极氧化铝或非阳极氧化铜�/p>

夹盘厚度�?0mm取决于晶圆和掩膜的厚�?/p>

荫罩掩膜（客户可定制荫罩掩膜（�/p>

材料：硅、石英、玻璃、金属、陶瓶�/p>

仪器尺寸�?00mm x 250mm

安装需求：用于对准过程中用来观察的显微镜、真穹�/p>

注：可以根据用户的需求进行定制、�/p>

优点９�/strong>

精确和可重建性的PVD涂层构建

用于PVD的减震夹盗�/p>

易用、对晶圆无损夹持机构

由于真空夹持，可以在对准的过程简单操佛�/p>

可以用于不同的晶圆尺寷�/p>

不需要安裄�/p>

低运行成�?/p>