特点９�/strong>

�� 易于安装

�� 基于视窗结构的软件，很容易操佛�/p>

�� 先进的光学设计，以确保能发挥�?*的系统性能

�� 能够自动的以0.01度的分辨率改变入射角�?/p>

�� 高功率的DUV－VIS光源，能够应用在很宽的波段内

�� 基于阵列设计的探测器系统，以确保快速测野�/p>

�� *多可测量12层薄膜的厚度及折射率

�� 能够用于实时或在线的监控光谱、厚度及折射率等参数

�� 系统配备大量的光学常数数据及数据庒�/p>

�� 对于每个被测薄膜样品，用户可以利用先进的TFProbe3.0软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型（EMA）测量分析；

�� 三种不同水平的用户控制模式：专家模式、系统服务模式及初级用户模式

�� 灵活的专家模式可用于各种独特的设置和光学模型测试

�� 健全的一键按�?Turn－key)对于快速和日常的测量提供了很好的解决方桇�/p>

�� 用户可根据自己的喜好及操作习惯来配置参数的测野�/p>

�� 系统有着全自动的计算功能及初始化功能

�� 无需外部的光学器件，系统从样品测量信号中，直接就可以对样品进行精确的校准

�� 可精密的调节高度及倾斜�?/p>

�� 能够应用于测量不同厚度、不同类型的基片

�� 各种方案及附件可用于诸如平面成像、测量波长扩展、焦斑测量等各种特殊的需汁�/p>

�� 2D�?D的图形输出和友好的用户数据管理界面、�/p>

系统配置９�/strong>

�� 型号：SE200AA-M300

�� 探测器：阵列探测�?/p>

�� 光源：高功率的DUV-Vis-NIR复合光源

�� 指示角度变化：可编程设定，自动可谂�/p>

�� 平台�?#961;-��配置的自动成僎�/p>

�� 软件：TFProbe 3.2版本的软仵�/p>

�� 计算机：Inter双核处理器�?9”宽屏LCD显示�?/p>

�� 电源�?10�?40V AC/50-60Hz�?A

�� 保修：一年的整机及零备件保修

规格９�/strong>

�� 波长范围�?50nm�?000 nm

�� 波长分辨玆� 1nm

�� 光斑尺寸�?mm�?mm可变

�� 入射角范围：10�?0�?/p>

�� 入射角变化分辨率�?.01�?/p>

�� 样品尺寸�?*直径�?00mm

�� 基板尺寸�?多可�?0毫米厙�/p>

�� 测量厚度范围*�?nm?10��m

�� 测量时间：约1�?位置�

�� 精确�?：优�?.25＄�/p>

�� 重复性误�?：小�? ?

选项:

�� 用于反射的光度测量或透射测量

�� 用于测量小区域的微小光斑

�� X－Y成像平台(X-Y模式，取�?#961;-��模式)

�� 加热/致冷平台

�� 样品垂直安装角度讠�/p>

�� 波长可扩展到远DUV或IR范围

�� 扫描单色仪的配置

�� 联合MSP的数字成像功能，可用于对样品的图像进行测野�/p>

应用:

�� 半导体制造（PR，Oxide� Nitride..)

�� 液晶显示（ITO，PR，Cell gap... ..�

�� 医学，生物薄膜及材料领域筈�/p>

�� 油墨，矿物学，颜料，调色剂等

�� 医药，中间设夆�/p>

�� 光学涂层，TiO2� SiO2� Ta2O5... ..

�� 半导体化合物

�� 在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膛�/p>

�� 非晶体，纳米材料和结晶硅

�� 应用于太阳能电池项目三�/p>

应用实例:

请与我们联系以获得详尽的应用实例......

详情关注：北京燕京电子有限公号�/p>