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泴/a>
相关仪表
制样/消解设备
光学仪器及设夆/a>
生物工程设备
其他
色谱?/a>
光谱检测分析仪
清洗/消毒设备
工业在线及过程控制仪?/a>
实验室家其/a>
椭圆偏振光谱仪主要用于准确测量薄膜厚度,光学常数,薄膜表面粗糙度以及其他的物理,化学,光学性能。美国AST公司设计和制造适合不同应用的高品质椭圆偏振光谱系统,其产品具有强大的分析功能软件TFProbe3.0,可以帮助研发或实验人员迅速地获得薄膜的厚度,表面粗糙度,合金成分和介电常数等数据
产品特点9/span>
易于安装
基于视窗结构的软件,很容易操佛/p>
先进的光学设计,以确保能发挥出好的系统性能
能够自动的以0.01度的分辨率改变入射角?/p>
高功率的DUV-VIS光源,能够应用在很宽的波段内
基于阵列设计的探测器系统,以确保快速测野/p>
zui多可测量12层薄膜的厚度及折射率
能够用于实时或在线的监控光谱、厚度及折射率等参数
系统配备大量的光学常数数据及数据庒/p>
对于每个被测薄膜样品,用户可以利用先进的TFProbe3.0软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型(EMA)测量分枏/p>
三种不同水平的用户控制模式:专家模式、系统服务模式及初级用户模式
灵活的专家模式可用于各种独特的设置和光学模型测试
健全的一键按?Turn-key)对于快速和日常的测量提供了很好的解决方桇/p>
用户可根据自己的喜好及操作习惯来配置参数的测野/p>
系统有着全自动的计算功能及初始化功能
无需外部的光学器件,系统从样品测量信号中,直接就可以对样品进行准确的校准
可调节高度及倾斜?/p>
能够应用于测量不同厚度、不同类型的基片
各种方案及附件可用于诸如平面成像、测量波长扩展、焦斑测量等各种特殊的需汁/p>
2D?D的图形输出和友好的用户数据管理界面、/p>
可用于微观区域选项的数字成像工其/p>
对整个小区域可进行反射测量的整体式反射计
系统配置9/strong>
型号:SE200BA-MSP-M300
探测器:阵列探测?/p>
光源:高功率的DUV-Vis-NIR复合光源
指示角度变化:可编程设定,自动可谂/p>
平台?#961;-配置的自动成僎/p>
软件:TFProbe 3.2版本的软仵/p>
整合了SE和MSP系列的优炸/p>
计算机:Inter双核处理器?9”宽屏LCD显示?/p>
电源?10?40V AC/50-60Hz?A
保修:一年的整机及零备件保修
基本参数9/strong>
波长范围?50nm?000 nm
波长分辨玆 1nm
光斑尺寸?mm?mm可变
入射角范围:10?0?/p>
入射角变化分辨率?.01?/p>
数字成像像素?30丆/p>
有效放大倍数?200
长物镜工作距离:12mm
MSP光速尺寸:2-500m可调
样品尺寸:zui大直径为300mm
基板尺寸:zui多可?0毫米厙/p>
测量厚度范围*?nm?10m
测量时间:约1?位置炸/p>
精度*:优?.25$/p>
重复性误?:小? ?
产品可选项9/strong>
用于反射的光度测量或透射测量
用于测量小区域的微小光斑
高分辨率数字摄像夳/p>
用于MSP的超长物镛/p>
X-Y成像平台(X-Y模式,取?#961;-模式)
加热/致冷平台
样品垂直安装角度讠/p>
波长可扩展到远DUV或IR范围
扫描单色仪的配置
应用领域9/strong> ?
玻璃镀膜领域(LowE、太阳能…)
半导体制造(PR,Oxide Nitride..)
液晶显示(ITO,PR,Cell gap... ..(/p>
医学,生物薄膜及材料领域筈/p>
油墨,矿物学,颜料,调色剂等
医药,中间设夆/p>
光学涂层,TiO2 SiO2 Ta2O5... ..
半导体化合物
在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膛/p>
非晶体,纳米材料和结晶硅
详情关注9span>北京燕京电子有限公司
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