楼主 发表于：2020-12-24 10:43:05

由于纳米二氧化硅成本相对较低，且具有良好的分散性、机械磨损性，高强度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐候性、高耐磨性等特点，是一种性能优良皃�/span>CM P技术用的抛光材斘�/span>.，因而常被用于金属、蓝宝石、单晶硅、微晶玻璃、光导摄像管筈�/span>表面精密抛光、�/span>

化学机械抛光＇�/span>CMP）技术是目前各类显示屏、手机部件、蓝宝石、不锈钢、单晶硅片等领域使用广泛的表面超精密加工技术，研磨抛光材料是化学机械抛光过程中必不可少的一种耗材，常用的研抛材料有氧化铈、氧化硅、氧化铝和金刚石(钻石)。氧化铈主要用于玻璃晶体等抛光，金刚石与氧化铝主要用于高硬度晶体的抛光，而纳米二氧化硅抛光液主要用于许多材料表面精密抛光。这几种材料往往可以搭配使用，组成研�?/span>-抛光的理想材料。本次介绍下纳米二氧化硅抛光液（VK-SP50W）的应用、�/span>

纳米二氧化硅抛光液（VK-SP50W）应用特性：

1、纳米二氧化硅抛光液＇�/span>VK-SP50W）由高纯纳米二氧化硅复合配置而成，通过高科技术分散成纳米颗粒，高含量分散均匀的纳米抛光液、�/span>

2、抛光速平坦度加工，抛光是利用SiO2等材料的均匀纳米粒子，不会对加工件造成物理损伤，速率快，利用分散均匀大粒径的胶体二氧化硅等粒子达到高速抛光的目的

3、高纯度，抛光液不腐蚀设备，使用的安全性能高、�/span>

4、高达到高平坦化研磨加工、�/span>

5、有效减少抛光后的表面划伤，降低抛光后的表面粗糙度、�/span>

纳米二氧化硅抛光液（VK-SP50W）使�?/span>范围９�/span>

1�?/span>可用于微晶玻璃的表面抛光加工中、�/span>

2、用于硅片的粗抛和精抛以叉�/span>IC加工过程，适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工、�/span>

3、用于晶圆的后道ＣＭＰ清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多晶化模组、微电机系统、光导摄像管等的加工过程、�/span>

4�?/span>广泛用于CMP化学机械抛光，如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、宝石、大理石等纳米级及亚纳米级抛光加工、�/span>
5�?/span>本产品可以作为一种添加剂，也可应用于水性高耐候石材保护液、水性胶粘剂与高耐候外墙涂斘�/span>的添加剂筈�/span>、�br/>

指标９�/span>

型号	外观	粒径	含量	应用
VK-SP50W	白色液体	50nm	20-30%	精密抛光
VK-SP50F抛光粈�/td>	白色粉体	50nm	99.8%	精密抛光