nanoArch P150微纳3D打印朹�/strong>由深圳市摩方材料科技有限公司自主研发的高精密微纳3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（P��SL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力�?D打印系统。P��SL技术使用高精度紫外光刻投影系统，将需打印模型分层投影至树脂液面，快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂工业样件。该技术具有成型效率高、加工成本低等突出优势，被认为是目前**有前景的微尺度加工技术之一、�/span>

基本参数

光源９�/span>UV-LED(405nm)

打印材料：高精度硬性光敏树脂，支持韧性树脂、PEGDA、耐高温树脂、生物医用树脂、柔性树脂、水凝胶、透明树脂、低收缩树脂、二氧化硅掺杂树脂、二氧化皓掺杂树脂等其他功能树脂筈�/span>

光学精度�?5��m

打印层厚９�/span>10-50��m

打印尺寸９�/span>48mm(L)��27mm(W)��50mm(H)

文件格式９�/span>STL

设备功率９�/span>3000W

系统外形尺寸９�/span>520�?L)��530�?W)��680�?H)

重量�?0kg

电气要求�?00-240V AC�?0/60HZ�?.5kW

应用领域９�/strong>

可广泛应用于生物检测、微机械、柔性材料与器件、生物医疗工程等领域

企业简介：

摩方材料是一家专注于高精密微纲�/span>3D打印系统及材料的高新技术企业，其业务涵盖高精密3D打印设备的研发及生产、高精密3D打印定制化产品服务、高精密3D打印原材料的研发及生产、高精密3D打印工艺设计开发及相关技术服务，拥有较为完整的高精密微纳3D打印产业生态链、�/span>

作为微纳3D打印的先行者和***，在三维复杂结构微加工领域，摩方团队拥有超过二十年的科研及工程实践经验、�/span>

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