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安徽贝意克设备技术有限公号/p>

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冷壁卷对卷连续生长石墨烯CVD设备

冷壁卷对卷连续生长石墨烯CVD设备
  • 品牌9span>贝意兊/span>
  • 产地9span>安徽合肥
  • 关注度:353
  • 型号9span>RTR-CVD-500
  • 报价9span class="jg_red">面议
  • 信息完整度:
核心参数
  • 目数9span>/
产品介绍

该款设备是全自动收放卷连续生长石墨烯CVD设备,设备左右侧配备移动小车供取放卷料,卷料通过放卷仓进入到反应区生长后?终再进行收卷;实验过程中通入液体或反应气体参与生长;卷料通过一系列纠偏,张力,线速度检测,过程牵引等装置控制调节,*终完整的进入尾部收卷仓。设备可通过触摸屏一键操控,采用承重框架结合钣金包围形式。机架采用深灰色、门板等采用时尚橘纹白。设备简约又不乏稳重,更具备操作直观方便、控温精确等性能、/span>


设备五大模块:放卷仓、预热区、反应区、冷却区、收卷仓

1、放卷仓9/span>

放卷仓左端配有移动小车供放置卷料,仓内配有卷料固定的支架以及纠偏、张力、线速度检测等装置供运行中自行调整卷料运行状态;仓外?面配有活动门供操作、检修;同时封闭状态下,可通过门上观察窗和仓内灯光观察内部机构运行状态。设备外侧预留有KF口可进行扩展:/span>

2、预热区9/span>

预热区温区长1000mm;上下面配有电阻丝加热和热电偶控温,腔体内侧配有石墨板,腔体上方配有进气管道,同时下方也预留有KF接口供后期加装配件;设备前后侧配有风冷,对壳体进行散热、/span>

3、反应区9/span>

反应区温区长1000mm;上下面配有电阻丝加热和热电偶控温,腔体内侧配有石墨板,腔体上方配有进气管道(通反应气体),同时下方也预留有KF接口供后期加装配件;设备前后侧配有风冷,对壳体进行散热。前面板配有气路组件供手动操作,壳体后部配有球阀控制的出气口,同时配有分液器+蠕动泵装置进行进液;

4、冷却区9/span>

冷却区温区长1000mm;腔体为双层水冷壳体,卷料经冷却区狭窄的腔道后冷却到收卷仓、/span>

5、收卷仓9/span>

收卷仓右端配有移动小车供放置卷料,仓内配有电阻检测装置以及纠偏、张力装置供运行中自行调整卷料运行状态;仓外?面配有活动门供操作、检修;同时封闭状态下,可通过门上观察窗和仓内灯光观察内部机构运行状态。设备外侧预留有KF口可进行扩展、/span>


额定功率?2KW

额定电压?80V

**可持续温度:预热?00℃、反应区1150ℂ/span>

推荐升温速率:≤10?min

加热区长度:1000mm+1000mm+1000mm(预热区+反应?冷却区)

收卷宽幅?00?50?000?500mm(可选)

热电偶:K型热电偶

控温方式:模糊PID控制和自动整定调节,智能?0段可编程控制

控温精度:?ℂ/span>

加热元件:电阻丝

分液罐容积:10L(圆柱型(/span>

蠕动泵:BT100S-DT15-44(四通道(/span>

气路?路(混合(/span>

进气口:Φ6双卡奖/span>

尾气口:Φ65宝塔嘳/span>

进出水接口:Φ16宝塔嘳/span>

设备尺寸:长6135mm×?045mm×?310mm

设备净重:4?/span>

问商宵/div>

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  • 冷壁卷对卷连续生长石墨烯CVD设备的使用方法?
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卷对卷连续化生长CVD设备RTR-III-80

型号:RTR-III-80

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实验级流化床设备

型号:BTF-1200C-D-CVD

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工商信息

企业名称

安徽贝意克设备技术有限公号/span>

企业类型

信用代码

91340100591423143H

法人代表

注册地址

成立日期

注册资本

有效期限

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安徽贝意克设备技术有限公司成立于2012年,基地位于安徽合肥,是一家集新材料设备研发、生产、销售与技术服务于一体的高科技企业。公司历经十余年的艰苦创业已由当年的行业追随者发展成为今天的行业领跑者 公司重视技术攻关和产品研发,建有一流的产品研发中心,拥有一支由多名博士硕士组成的专业研发队伍,累计获得**200余项。并通过产学研合作,与北京大学南开大学等多所知名院校建立联合实验室及研究生联合培养基 公司专注于新材料装备工艺开发及装备制造,产品门类

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