盛美半导体设备（上海）股份有限公号/div>
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产品详情
SAPS兆声波清洗设夆/div>
- 参考报价：
- 面议
- 品牌９/dt>
- 盛美半导佒/dd>
- 关注度：
- 787
- 样本９/dt>
- 暂无
- 型号９/dt>
- SAPS兆声波清洗设
- 产地９/dt>
- 美国
- 信息完整度：
-
- 典型用户９/dt>
- 暂无
产品简今/div>
SAPS兆声波清洗设夆/h2>
空间交变相位移晶圆清洗应用领埞/p>
特性和规格（Ultra C SAPS II（/h1>
*多可配至8个腔体，产能225WPH
双面清洗?多可?种清洗药? ? DHF SC1, SC2, DIO3, BOE, Solvent, HF/HNO3?/p>
*多可回收两种药液
集成式药液供给模坖/p>
设备体积小：2.35m x 5.53m x 2.85m （宽x长x高）
特性和规格（Ultra C SAPS V（/h1>
具有所有Ultra C SAPS II设备的功胼/p>
*多可配至12个腔? 产能375 WPH
集成式化学药液供给模坖/p>
可配高温IPA干燥的技?/p>
设备体积小：2.35m x 6.7m x 2.85m （宽x长x高）
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